气相液相色谱柱硅胶与普通硅胶相比，不同之处在于，早期填料解决峰形拖尾是用较小的烷基来覆盖硅胶表面，这种方法仅对少数应用有效，后来有采用复杂的洗脱方法来去除表面杂质，经过这种碱性去活处理的填料性能有了较大的提高，特别是易于拖尾的碱性化合物峰形有了改善，但是，种种办法都不尽如意。现在，我们在各种可能的方面进行了改进，解决了由填料带来的种种问题。
色谱峰拖尾的很大一部分原因是，填料硅胶中含有金属离子杂质，在反相色谱分析中金属离子的主要影响作用方式有一下三种：螯环化合物与金属离子在硅胶表面的强螯合作用，使得分析中他们的分离度和灵敏度都大大下降，峰形严重拖尾；金属离子可以提高硅醇基的活性，使他们更偏酸性，加重了碱性化合物的拖尾，甚至可能导致峰形无法分辨；金属离子杂质的存在影响固定相与硅胶表面的键合强度，使固定相烷基在硅胶表面的分布不均匀，暴露的硅醇基和金属杂质离子更易于影响敏感的待测分析化合物。
所以，色谱填料硅胶中的杂质含量高低，是影响色谱峰拖尾的关键因素。
与普通填料金属杂质含量比较可以看出，其他普通填料的金属离子含量远高于液相色谱柱：金属杂质Na+K+Mg2+
Al3+Fe2+Ca2+Ti+Zn2+CylarCol II 5C1851376411其他填料37-4220ND4-6420-15020-3036-444NDND
三种严苛测试
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